【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0250
利用課題名 / Title
多段階反応プロセスにおけるガス供給制御に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
モノシラン,マスフローコントローラ,腐食,電子分光/ Electron spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
田中 雄大
所属名 / Affiliation
コフロック株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大塚 照久
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
特殊材料ガスがガス供給制御機器の接ガス部品に与える影響の調査として、表面の腐食及び残留物の調査を目的とする。
実験 / Experimental
ガス供給制御機器でSiH4の流量制御を行った後に分解。接ガス部品の表面と未使用部品の表面をX線光電子分光分析装置で分析する。
結果と考察 / Results and Discussion
接ガス部品の表面に生成物と見られるSiO2に近しい位置でピークが観察された。しかし、試料を持ち込む際に表面保護シートを貼付していた為、有機物のピークも観察された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1：未使用部品
図2：接ガス部品
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件