【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.18】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0208
利用課題名 / Title
超伝導検出器開発のための研究
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,量子効果/ Quantum effect,超伝導/ Superconductivity
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
石塚 知明
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
飯竹 昌則
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
超伝導量子回路試作施設（Qufab）[1]で作製した超伝導トンネル接合アレイから成る超伝導検出素子について評価を行っているが、その一つとして素子基板のたわみ具合を調べた。
実験 / Experimental
素子基板上のパターンのない平滑な部分のプロファイルをレーザ顕微鏡で測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
測定結果の一例を図1に示す。
素子基板上のパターンのない平滑な部分（図1の左上写真の青線）のプロファイルを測定でき、たわみ具合を知ることができた。
素子性能との相関を調べるデータとして活用したい。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１．測定結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
[1] https://unit.aist.go.jp/g-quat/Qufab/index.html
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件