【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0185
利用課題名 / Title
高移動度SiC
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion
キーワード / Keywords
エレクトロデバイス/ Electronic device,ワイドギャップ半導体/ Wide gap semiconductor,リソグラフィ/ Lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐沢 洋幸
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大塚 照久,杉山 和義,川又 彰夫
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-006：マスクレス露光装置
AT-019：多目的エッチング装置(ICP-RIE)
AT-089：赤外線ランプ加熱炉（RTA）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
半導体単結晶を用いた横型トランジスタを作製するため、光リソグラフィーにより、電極および素子分離溝形成のためのフォトレジストの開口を形成した．オーミック電極を形成するため電極形成後の基板を高速アニールした．
実験 / Experimental
単結晶基板上に光リソグラフィーを用い、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極の形状となるレジストの開口を形成した．この開口に形成したソース電極とドレイン電極をオーミック性接触とするため、高速アニール処理を900℃/2分行った．レジストの開口形状を光学顕微鏡で観察した．アニール処理後の電極形状の端部荒れを光学顕微鏡で観察した．阻止分離として反応性プラズマエッチングによりメサ形状を形成した．メサの高さは200nmとなるよう時間をエッチング制御した．
結果と考察 / Results and Discussion
レジスト開口は図面データ通りの形状に加工できていることを確認できた．アニール処理後の電極端部形状は、直線上ではなくサブミクロンオーダーのギザギザが確認できた．900℃では温度が高すぎるのかあるいは、機器特有の現象である加熱中の温度降下が原因であると推測した．エッチングにより形成したメサの深さは複数点測定でほぼ200nmであることを確認した．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
機器の操作法習得にあたり産総研ナノプロセシング施設（NPF)のスタッフの方々に多大なご協力をいただいた．
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件