【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0159
利用課題名 / Title
不揮発性メモリーに関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
エレクトロデバイス/ Electronic device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
渡邊 律
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
佐藤 平道,郭 哲維
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
次世代不揮発性メモリとして、カーボンナノチューブを用いたメモリが注目を集めている。本研究では、素子として使うカーボンナノチューブの電気特性を調べるべく、産総研NPFにて、基板上への金属パターン膜形成作業を産総研NPFで行った。
実験 / Experimental
1 cm角表面酸化Si基板及び石英基板に、メタルマスクを設置したものを用意し、【NPF023】電子ビーム真空蒸着装置にセットした。基板ホルダー冷却水を流しながら、Ni, Auをそれぞれ20, 180 nmないし、Ti, Ptをそれぞれ20, 180 nm蒸着した。蒸着後得られた試料を装置から取り出したのち、試料を光学顕微鏡で観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1に、蒸着後の試料の光学顕微鏡像を示す。図中丸い金色の部分が金属膜が蒸着された部分であり、メタルマスクのパターン通りに形成されていることを確認した。一方で、パターンの縁にボケを確認した。これはメタルマスクと試料の間に隙間があったため回り込みが起きたと考えている。今後は、原子間顕微鏡による蒸着膜厚と回り込みの評価を行う予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1．An optical image of a typical fabricated sample.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
特になし。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件