利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.04.04】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23AT0126

利用課題名 / Title

磁性薄膜ドット加工

利用した実施機関 / Support Institute

産業技術総合研究所 / AIST

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

スピン制御/ Spin control,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,スピントロニクス/ Spintronics


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

染谷 浩子

所属名 / Affiliation

産業技術総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

赤松 雅洋

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AT-033:アルゴンミリング装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

磁性ガーネット薄膜材料においてハイスループット実験を実行し、薄膜組成の最適化実験、及び素子構造、加工プロセスの最適化実験を行っている。本課題では、コンビナトリアルスパッタ装置を用いて成膜した3元系薄膜を、成膜後に加熱処理し結晶化させたサンプルに対して、アルゴン(Ar)イオンミリング装置を用いてエッチング加工を行い、デバイス作製を行った。

実験 / Experimental

1インチΦの結晶性のガドリニウムガリウムガーネット(GGG,SGGG)を基板として、コンビナトリアルスパッタ装置を用いて成膜した。この3元系薄膜に対し、コンタクト露光で作製したドット形状のレジストパターンを形成し、これをマスクにしてArイオンミリングを行う手順で、3元系薄膜のドットパターンを作製した。

結果と考察 / Results and Discussion

本年度は、材料探索の為、様々な材料で成膜を行い、デバイスを作製したため、ミリングの条件探索を試みた。レシピ#0 NPF500V YIG単層膜:120Å/min(Bi Y Lu)IG膜:150Å/min (Gd Y Ce)IG膜:130Å/min(Gd Y Lu)IG膜:140Å/min(Tb Y Tm)IG膜:140Å/min(Tb Y Lu)IG膜:140Å/min 組成比を変えてもレートにはあまり変化が無いが、中間層にYIG膜を挟むとレートが遅くなる傾向がある。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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