【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0111
利用課題名 / Title
磁性ガーネット膜のドット加工
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,スピントロニクス/ Spintronics,量子効果/ Quantum effect,高周波デバイス/ High frequency device,スピントロニクスデバイス/ Spintronics device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
大森 康智
所属名 / Affiliation
日本電気株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
赤松 雅洋,杉山 和義,渋谷 直哉
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-006：マスクレス露光装置
AT-025：スパッタ成膜装置(芝浦）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
近年スピントロニクス分野では、磁性体薄膜などで生じる特異な物理現象を用いたデバイスの開発が盛んであるが、その中でもガーネット系酸化物はその物理的特性から広く使われる。その加工及び物性評価のため、今回、産業技術総合研究所のナノプロセシング施設(NPF)を利用し、磁性ガーネット膜のドット加工を行った。さらに、磁気共鳴実験を行った。
実験 / Experimental
イットリウム鉄ガーネット（YIG）を、【AT-025】スパッタ成膜装置(芝浦）を用いGGG基板上に成膜した後、コンタクト露光装置にて基板上に数百のドットパターンのパターニングを行った。ドットの形状は直径100μmの円形とした。ドットには更に続けて【AT-006】マスクレス露光装置を用い微細な孔パターンをパターニングし、穴を空けた。孔パターンはサイズ・数が異なるものを系統的に配置した。最後に電極をパターニングし、金電極を成膜した。これらのドットに対し、磁気共鳴測定実験を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
パターニングされた孔パターンの大きさによって磁気共鳴ピークの幅が広がるふるまいを見せた。通常YIGの磁気共鳴線幅は加工プロセスによるダメージ等の影響で成膜直後のものに比べ広くなるが、孔パターンを加えたものでは更に広がる振る舞いが観測された。今後は孔パターンのサイズ依存性等から磁気共鳴線幅が広がる機構を追求していく。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
特になし
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件