【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.02.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0097
利用課題名 / Title
ダイヤモンド半導体デバイスの作製
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電気特性評価/ Electrical characterization,エレクトロデバイス/ Electronic device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,ALD,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
桝村 匡史
所属名 / Affiliation
北海道大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
奥野朝陽
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
川又 彰夫,杉山 和義,郭 哲維,山崎 将嗣
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-006：マスクレス露光装置
AT-023：電子ビーム真空蒸着装置
AT-019：多目的エッチング装置(ICP-RIE)
AT-109：６インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック）
AT-031：原子層堆積装置_1[FlexAL]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ダイヤモンド基板上にリソグラフィやエッチング等の手法を用いてゲート幅の異なる2種類のトランジスタを作製し、歩留まりに差が生じるか調べた。
実験 / Experimental
AT-006マスクレス露光装置を用いてエッチング、リフトオフ等で必要となるレジストパターンを作製した。
AT-031原子層堆積装置_1[FlexAL]によって絶縁膜の成膜を行った。
AT-019多目的エッチング装置を用いて絶縁膜のエッチングを行った。
AT-023電子ビーム蒸着装置及びAT-109６インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック）を用いて電極金属を成膜した。
結果と考察 / Results and Discussion
作製したトランジスタのIV特性を調べ、ゲート幅の異なる2種類のトランジスタの歩留まりを比較した。
A型と比較してゲート幅が半分に短縮されたB型のトランジスタにおいて、図1に示すようにA型と比較して16％高い歩留まりを確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 ダイヤモンドトランジスタの歩留まり
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 桝村匡史 他, 第37回ダイヤモンドシンポジウム（神奈川）, 令和5年11月14日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件