利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.04.22】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23AT0095

利用課題名 / Title

酸化物の電気特性評価

利用した実施機関 / Support Institute

産業技術総合研究所 / AIST

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,スパッタリング/ Sputtering,成形/ Molding,リソグラフィ/ Lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,ワイヤーボンディング/ Wire Bonding,エレクトロデバイス/ Electronic device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

浅沼 周太郎

所属名 / Affiliation

産業技術総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術代行/Technology Substitution


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AT-006:マスクレス露光装置
AT-033:アルゴンミリング装置
AT-061:短波長レーザー顕微鏡[OLS-4100]
AT-082:化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
AT-095:RF-DCスパッタ成膜装置(芝浦)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

Pulsed Laser Deposition法・スパッタ法で作製した酸化物薄膜を強誘電特性測定・PPMS測定用に微細加工及び電極膜成膜等を行った。

実験 / Experimental

加工手順
強誘電特性測定用
1.電子ビーム蒸着装置を用いて酸化物薄膜上にPt(10 nm)、Au(100 nm)の電極層を成膜する。
2.マスクレス露光装置を用いてピラー状に残す部位のパターンを描き、現像する。
3.アルゴンミリング装置を用いてピラー状に残す部位以外を基板が露出するまでミリングする。
4.フォトレジストを残したままスパッタ成膜装置を用いてSiO2を300 nm堆積する。
5.その後、超音波洗浄機を用いてフォトレジストを除去する。
6.短波長レーザー顕微鏡を用いてフォトレジストが除去され、SiO2表面と比較してピラー部が凹んだ状態になっていることを確認する。
7.確認後、電子ビーム蒸着装置を用いてプローバーとコンタクトを取る電極層(Au、Cr)を成膜する。
8.マスクレス露光装置で電極パターンを描き、現像する。
9.アルゴンミリング装置を用いて電極周辺のSiO2層をミリングする。
 PPMS測定用
1.メタルマスクで酸化物薄膜を覆い、電子ビーム蒸着装置を用いてPt(10 nm)、Au(100 nm)の電極層を成膜した。
2.その後、ワイヤーボンダーを用いて試料に配線を行い、PPMSで測定を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

作製した強誘電特性測定用試料の模式図を図1に、PPMS測定用の画像を図2に示す。作製した素子を用いて強誘電特性及び抵抗の温度依存性等の測定を行った。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1 強誘電特性測定用試料の模式図



図2 PPMS測定用試料の画像


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 浅沼周太郎、「NaClO溶液の酸化作用を利用した 酸化物薄膜の酸素欠陥低減に関する研究」、2023年秋季応用物理学会
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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