【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.02.29】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23AT0086

利用課題名 / Title

トランスファープリンティングによる光回路集積

利用した実施機関 / Support Institute

産業技術総合研究所 / AIST

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

光導波路/ Optical waveguide,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,フォトニクス/ Photonics

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

里 亮介

所属名 / Affiliation

産業技術総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

山崎 将嗣

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AT-089：赤外線ランプ加熱炉（RTA）

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

Si-SiO₂-Si水平スロット導波路を作製するためには，SiO₂の厚さを再現性良く精密に制御する必要がある．そこで，Si酸化のレート測定，および膜厚調整のためのウェットエッチングを行った．

実験 / Experimental

Siチャネル導波路を赤外線ランプ加熱炉で熱酸化し，膜厚計で酸化膜の厚さを測定後，BHFで膜厚調整のためのウェットエッチングを行った．

結果と考察 / Results and Discussion

Siチャネル導波路を熱酸化する場合，平坦なSiウェハを熱酸化するときよりも熱酸化のレートが速いことが分かった．その理由は，導波路上部や側壁からだけでなく，導波路下部からも熱酸化が進むからであると考えられる．このことを考慮し，従来よりもレートを速く見積もって酸化時間を設定してエッチングによる膜厚調整を行うことが重要である．

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1. 水平スロット導波路．Siチャネル導波路を熱酸化し，酸化膜厚をウェットエッチングで調整した後，μ-Transfer PrintingによりSiを積層する．

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

 L. Zhang, et al., “Silicon waveguide with four zero-dispersion wavelengths and its application in on-chip octave-spanning supercontinuum generation,” Optics Express 20(2), 1685–1690 (2012).

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件