【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23IT0030
利用課題名 / Title
磁性コア付きインダクタの試作
利用した実施機関 / Support Institute
東京工業大学 / Tokyo Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
パワーエレクトロニクス,軟磁性材料,薄膜,エレクトロデバイス/ Electronic device,高周波デバイス/ High frequency device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高村 陽太
所属名 / Affiliation
東工大 中川研
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
仁田帆南,山中希未斗
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
パワーエレクトロニクス応用に向けた軟磁性薄膜のデバイス評価のために、デバイスを作製することが目的である。
そのためにマスクレス露光機を使用してフォトリソグラフィを行った。
実験 / Experimental
基板上にフォトレジストS1818を用いてフォトリソグラフィを行い、リフトオフにより磁性膜を成形した。
導電シード層上にフォトレジストP-BK5000を用いてフォトリソグラフィを行い、電解めっき膜のパターンを形成した。
結果と考察 / Results and Discussion
磁性膜の成形では、リフトオフのためにアセトンに液浸した際に、ホットプレートを用いて60℃に加熱し1時間保持を行うことでアセトンの対流により残渣の少ないリフトオフに成功した。幅10um程度の微細なパターンの箇所はアセトンで超音波洗浄を数分行うことでリフトオフに成功した。
電解めっき膜のパターン形成では、プリベーク時間の条件出しを行い厚み60um程度のレジストのパターニングに成功した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・仁田帆南, 金子忠幸, 河原和馬, 石戸亮祐, 宮﨑達也, 細田尚揮, 藤﨑敬介, 中川茂樹, 高村陽太, 令和5年電気学会全国大会, 愛知県名古屋市, 2-095, 15 Mar. 2023.
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Yota Takamura, Fabrication of CoFeB–SiO2 Films With Large Uniaxial Anisotropy by Facing Target Sputtering and its Application to High-Frequency Planar-Type Spiral Inductors, IEEE Transactions on Magnetics, 59, 1-4(2023).
DOI: 10.1109/TMAG.2023.3291879
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- Y. Takamura, H. Nitta, R. Ishido, T. Kaneko, S. Miyazaki, M. Hosoda, K. Fujisaki, S. Nakagawa, The First International Symposium on Integrated Magnetics 2023 (iSIM 2023), Sendai, Miyagi, CP-15, 15 May. 2023.
- Y. Takamura, H. Nitta, K. Kawahara, T. Kaneko, R. Ishido, T. Miyazaki, N. Hosoda, K. Fujisaki, S. Nakagawa, Intermag2023, Sendai, Miyagi, Intermag 2023 Digest Book, MOA-05, 15 May. 2023.
- 仁田帆南, 山中希未斗, 宮﨑達也, 石戸亮祐, 藤﨑敬介, 中川茂樹, 高村陽太, マグネティックス研究会 テーマ「高周波磁性材料（磁性粉末複合材料）・センサ」, 東京都, 電気学会研究会資料, 一般社団法人 電気学会, pp. 25-30, 7 Nov. 2023.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：1件