利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.04.04】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23IT0012

利用課題名 / Title

メタマテリアル光機能素子の作製

利用した実施機関 / Support Institute

東京工業大学 / Tokyo Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者)/Internal Use (by ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,リソグラフィ/ Lithography,電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクス/ Photonics


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

雨宮 智宏

所属名 / Affiliation

東京工業大学工学院電気電子系

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

IT-038:電子ビーム露光装置
IT-008:3連Eガン蒸着装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

メタマテリアルをベースとした光機能素子を実現するためにARIMの設備を利用した。

実験 / Experimental

電子ビーム露光装置(JEOL JBX-8100)(IT-038)による対象基板への電子線描画レジストの転写。3連Eガン蒸着装置(Ulvac EX-300)(IT-008)によるリフトオフプロセスを用いた光メタマテリアルパターンの形成。

結果と考察 / Results and Discussion

メタマテリアルをベースとした各種光機能素子の作製を実施した。電子ビーム露光装置(IT-038)による対象基板への電子線描画レジストの転写、および3連Eガン蒸着装置(IT-008)によるリフトオフプロセスを用いることで、サイズとして150nmx150nmのメタマテリアルアレイをシリコン導波路内に実装し、それに伴う強い非線形効果を観測することに成功した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
  1. Yoshihiro Honda, Extended optical waveguide theory with magneto-optical effect and magnetoelectric effect, Optics Express, 31, 32017(2023).
    DOI: doi.org/10.1364/OE.496200
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 雨宮 智宏. メタマテリアルを内包した有機フィルム開発, フォトニクスポリマー研究会, Nov. 2023.
  2. 雨宮 智宏, 岡田 祥, 西山 伸彦, 大塚 健祐, 浦上 達宣. メタマテリアル技術を用いた放射冷却パッケージ材, 第84回応用物理会秋季学術講演会, 23p-A309-1, Sept. 2023.
  3. 本多 祥大, 雨宮 智宏. メタマテリアル導波路による非線形光活性化関数, 第70回応用物理学会春季学術講演会, 16p-A305-2, Mar. 2023.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:3件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:1件

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