【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.04】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23IT0010
利用課題名 / Title
ナノインプリントを用いた集積フォトニクス技術の開発
利用した実施機関 / Support Institute
東京工業大学 / Tokyo Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
リソグラフィ/ Lithography,フォトニクス/ Photonics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
雨宮 智宏
所属名 / Affiliation
東京工業大学工学院電気電子系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
IT-038：電子ビーム露光装置
IT-014：ダイヤモンド用ICPリアクテブイオンエッチング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノインプリントを用いた光集積プロセス技術を開発するためにARIMの設備群を利用した。
実験 / Experimental
電子ビーム露光装置（JEOL JBX-8100)(IT-038)によるナノインプリントのマスターモールド作製。UVナノインプリント露光装置によるSOI基板へのNILレジストの転写後、リアクテブイオンエッチング装置（サムコ ICP-400iP)(IT-014)による光回路パターンの形成。
結果と考察 / Results and Discussion
UVナノインプリント露光装置を用いたシリコン導波路プロセスの確立を行った。エッチング条件等をコントロールすることで、垂直性の高い導波路を得ることに成功し、現在、それらの条件をもとに実際の光回路の作製・評価を進めている。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- UVナノインプリントを用いた集積フォトニクス技術の開発, ナノインプリント ー次世代微細加工技術の最前線ー （シーエムシー出版）
- 雨宮 智宏, 岡田 祥, 高橋 直樹, 佐々木 龍耶, 堀川 剛, 渥美 裕樹, 小田 悠貴, 原 悠太, 野田 真司, 山本 宏, Thomas Uhrmann, Andrea Kneidinger, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 西山 伸彦. UVナノインプリントリソグラフィを用いた大面積集積フォトニクスプロセスの開発, 第84回応用物理会秋季学術講演会, 20p-A201-6, Sept. 2023.
- 雨宮 智宏, 集積フォトニクスへ向けたUV-NILプロセス技術の開発, 2024年第1回ナノインプリント技術研究会, Feb. 2024.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件