【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT1091
利用課題名 / Title
SnO2薄膜を利用した光波長計測素子の作製
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
光デバイス/ Optical Device,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
太田 涼介
所属名 / Affiliation
東京大学大学院新領域創成科学研究科人間環境学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
割澤伸一（東京大学大学大学院新領域創成科学研究科）,米谷玲皇（東京大学大学大学院新領域創成科学研究科）
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-711：LL式高密度汎用スパッタリング装置(2019)
UT-704：高密度汎用スパッタリング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
光通信分野への応用を志向し，SnO2薄膜等により構成される光波長計測素子の作製を行った．デバイスの作製は，主にARIM共用設備であるLL式高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4EP-LL)，及び高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4ES）を用い行った．
実験 / Experimental
光波長センシングを実現する光応答材料としてSnO2を利用しデバイスの作製を行った．作製は，まず，電子ビームリソグラフィーにより，SiO2(膜厚: 280 nm)/Si基板上に光波長計測デバイスパターンをパターニングした．続いて，ARIM共用設備であるLL式高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4EP-LL)，及び高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4ES）を用いて，SnO2薄膜を製膜し，リフトオフすることにより，SnO2薄膜からなるデバイス構造を作製した．その後，電子ビームリソグラフィー，スパッタリング，リフトオフを利用した作製プロセスにより，SnO2薄膜デバイスパターン上に，Pt/Tiからなる電極を作製し，光波長計測デバイス構造を作製した．
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 1に，作製した光波長計測デバイスの光学顕微鏡写真を示す．対向配置されたPt/Ti電極間にSnO2からなる受光部が設けられたデバイス構造が，2対配置されたデバイスである．このように，光波長計測デバイスの作製を達成した．光波長のセンシングへの応用が期待されるデバイスである．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 SnO2 thin film-based wavelength detection device
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件