【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT1056
利用課題名 / Title
マイクロ波共振器を用いた物性測定
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,原子薄膜/ Atomic thin film,量子コンピューター/ Quantum computer,スピン制御/ Spin control,スピントロニクス/ Spintronics,超伝導/ Superconductivity,スピントロニクスデバイス/ Spintronics device,量子効果デバイス/ Quantum effect device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
井手上 敏也
所属名 / Affiliation
東京大学物性研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-505：レーザー直接描画装置 DWL66+2018
UT-606：汎用平行平板RIE装置
UT-711：LL式高密度汎用スパッタリング装置(2019)
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
Nbをフォトリソグラフィ、エッチングしてマイクロ波共振器を作製した。また原子層物質の電気伝導測定試料をスパッタリングとRIEを用いて作製した。
実験 / Experimental
Nbがスパッタされた基板にレーザー直接描画装置で共振器パターンを描き、平行平板RIE装置でエッチングをすることでマイクロ波共振器を作製した(図1)。原子層物質を基板にへき開し、EBリソグラフィでパターンニングした後RIEで成形、スパッタリングで電気的コンタクトを作製した(図2)。
結果と考察 / Results and Discussion
フォトリソグラフィを用いてNb上にパターンを描画し、RIEでNbをエッチングすることでマイクロ波共振器試料を作製した。マイクロ波透過測定によって共振を観測した。現在は測定系の改良に取り組んでいる。また原子層物質の電気伝導試料では酸化膜の除去をスパッタリング装置のin-situイオンミリングを用いて行い、良好なコンタクトを得た。現在非相反伝導や光電流の測定を行って解析中である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 フォトリソグラフィとRIEで作製したNbマイクロ波共振器
図2 in-situ ionmillingとスパッタリングで作製したvan der waalsフレークホールバー試料
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件