【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT1049
利用課題名 / Title
メタサーフェスの為のホールパターン開発
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
メタマテリアル/ Metamaterial,電子線リソグラフィ/ EB lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
北山 清章
所属名 / Affiliation
SCIVAX株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
粟屋 信義,坂口 綾菜,日下 雄介
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
藤原 誠
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-503：超高速大面積電子線描画装置
UT-800：クリーンドラフト潤沢超純水付
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
メタサーフェスは電磁波制御の為に、サブミクロンオーダーの微細構造を平面に多数配置した物の事である。中でも微細構造パターンを同心円状に配置してレンズの機能を持たせたメタレンズと呼ばれる物は、通常のレンズより薄い事から特に製品の小型化において大きな利点を持つ。本課題ではメタサーフェス開発の第一ステップとして、ピッチ400[nm]の微細な矩形ホールパターンをEB描画で作製する事を目的とした。
実験 / Experimental
東京大学武田先端知スーパークリーンルームにて、シリコンウェハをAPM(Ammonia hydrogen Peroxide Mixture)に80℃10分で浸漬させて洗浄した後エアブローし、110[℃]90[sec]で脱水した。ウェハ上にOAPを3000[rpm]30[sec]、ZEP-530レジストを1500[rpm]60[sec]で順にスピンコートし、それぞれコート後に110[℃]60[sec],180[℃]300[sec]で加熱した。電子線描画でメタレンズパターンを直描、ZED-N60に65[sec]浸漬させて現像し、IPAで2回リンスした後エアブローした。得られたパターンを自社のSEMで測長した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1にSEMで観測したパターンの上面図を、Fig.2に断面図を示す。近接効果補正によって矩形サイズに関わらずテーパの少ないホールを作製出来た。矩形幅の設計値は最小80、最大300[nm]であるのに対し実測値は最小73、最大295[nm]で誤差は数[nm]程度に収まっており、十分な光学特性を発揮するものと期待される。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 SEM上面図
Fig.2 SEM断面図
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
「マテリアル先端リサーチインフラ ARIM」支援室 藤原誠様に感謝します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件