【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT1011
利用課題名 / Title
反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
波長制御エミッタ,メタマテリアル/ Metamaterial,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,電子線リソグラフィ/ EB lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
戸谷 剛
所属名 / Affiliation
北海道大学大学院工学研究院
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小田島 聡,後藤 凌平
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
藤原 誠,澤村 智紀
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
反応物の波長5.882 μm(波数：1700 cm-1 )の赤外線吸収帯に赤外線を放射するエミッタの実現を目的に，金属ー絶縁体ー金属(MIM)構造を持つ波長制御エミッタ（面積：50 mm × 50 mm）の作製を行った。
実験 / Experimental
MIM構造の作製手順と利用した機関をFig. 1に示す。北海道大学のコンパクトスパッタでCrとAuをスパッタし，原子層堆積装置(ALD)でAl2O3 を堆積させた後，東京大学で電子線描画を行い，北海道大学で現像後，ヘリコンスパッタを用いて，CrとAuをスパッタし，リフトオフすることでMIM構造を作製している。
結果と考察 / Results and Discussion
作製したMIM構造の垂直放射率をFig. 2に示す。Fig. 2のCenter_#1, #2は，50 mm角の中心付近を測定された1回目と2回目の垂直放射率のデータを示す。作製したMIM構造の垂直放射率が，目標とした波長域（5.882 μm付近）で大きくなっていることが分かる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Fabrication process of MIM structure.
Fig. 2 Normal emissivity.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本研究は，日本ガイシ株式会社との共同研究にて実施しました。超高速大面積電子線描画装置にあたり，東京大学の藤原 誠 様，澤村智紀 様に大変お世話になりました。東京大学以外に北海道大学のARIM登録装置を利用しています。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件