【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23WS0302
利用課題名 / Title
3次元磁気メモリのための磁性めっき膜の開発
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学 / Waseda Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
エレクトロデバイス/ Electronic device,PVD,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高村 陽太
所属名 / Affiliation
東京工業大学 工学院 電気電子系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
黄童雙,斎藤裕太
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
齋藤美紀子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
WS-021：触針式段差計
WS-005：精密めっき装置群＋ドラフト群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
3次元磁気メモリの磁気細円柱は，そのプロセスの制約上電解めっきで作製することが不可欠であり，電解めっきに関連する設備を利用した．
実験 / Experimental
111配向したPt下地層の上にCoPtを電解めっきした．また、触針式段差計を用いてめっき部分の膜厚の測定を行った.
結果と考察 / Results and Discussion
電析電位によって磁化特性を制御出来ることを示した．まためっきで作製したCoPt薄膜が、垂直磁気異方性を示し、さらにこの起源が結晶の配向性に起因していることを突き止めた。極薄CoPt薄膜は、3次元磁気メモリの磁性材料として理想的な磁化特性を示した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Tongshuang Huang, Development of Ultra-Thin CoPt Films With Electrodeposition for 3-D Domain Wall Motion Memory, IEEE Transactions on Magnetics, 59, 1-5(2023).
DOI: 10.1109/TMAG.2023.3298911
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- T. Huang, Y. Takamura, S. Isogami, Y. Saito, Md. M. Hasan, M. Saito, S. Kasai, S. Nakagawa, “Second harmonic Hall measurement for CoPt thin film formed on highly oriented Pt layer with electrochemical deposition,” JSAP Fall Meeting, 23p-A201-5, Kumamoto, Sept. 23rd 2023.
- T. Huang, Y. Takamura, M. Saito, M.-M. Hasan, S. Kasai, Y. Sonobe, S. Nakagawa, “Development of ultra-thin CoPt films with electrodeposition for three-dimensional domain wall motion memory,” Intermag 2023, poster, GR-05, Sendai, Japan, May 2023.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件