【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23WS0301
利用課題名 / Title
薄膜インダクタの作製
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学 / Waseda Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
高周波デバイス/ High frequency device,電子顕微鏡/ Electronic microscope,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高村 陽太
所属名 / Affiliation
東京工業大学 工学院 電気電子系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
仁田帆南,山中希未斗
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
WS-003：電子ビーム蒸着装置
WS-005：精密めっき装置群＋ドラフト群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高周波用インダクタを半導体プロセスで実現するにあたり，インダクタの銅コイル部分を電解めっきで作製する．
実験 / Experimental
基板にEB蒸着装置でCrとCuを成膜した．その後リソグラフィを実施しコイルパターンを形成した．アッシングなどでレジスト残渣を完全に取り除いた後，銅メッキをした．
結果と考察 / Results and Discussion
顕微鏡観察から非常にきれいに銅めっきが施されたことを確認した．
同一ウエハ上にインダクタンスのインピーダンス計測の結果，ウエハ内のインダクタンスのバラツキが極めて少ないデバイスを作製することができたと結論づけた．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Yota Takamura, Fabrication of CoFeB–SiO2 Films With Large Uniaxial Anisotropy by Facing Target Sputtering and its Application to High-Frequency Planar-Type Spiral Inductors, IEEE Transactions on Magnetics, 59, 1-4(2023).
DOI: 10.1109/TMAG.2023.3291879
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Honami Nitta, Fabrication and Characterization CoZrO Films Deposited by Facing Targets Reactive Sputtering for Micromagnetic Inductors, IEEE Magnetics Letters, 14, 1-5(2023).
DOI: 10.1109/LMAG.2023.3320495
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 仁田帆南, 山中希未斗, 宮﨑達也, 石戸亮祐, 藤﨑敬介, 中川茂樹, 髙村陽太. "対向ターゲット式スパッタ法で成膜したCoFeB-SiO2 を磁性コアとした平面スパイラルインダクタの作製プロセスの改善 ", 電気学会研究会資料 , MAG-23-111,pp. 25-30, 東京, 2023年11月
- Y. Takamura, H. Nitta, R. Ishido, T. Kaneko, T. Miyazaki, N. Hosoda, K. Fujisaki, S. Nakagawa. "Simulation and fabrication of planar type spiral inductors with facing target sputtered CoFeB-SiO2 magnetic layers", The First International Symposium on Integrated Magnetics 2023 (iSIM 2023) , Sendai, Japan, May 2023.
- T. Kaneko, H. Nitta, Y. Takamura, S. Nakagawa, "Fabrication and characterization CoZrO films deposited by facing targets reactive sputtering for micro magnetic inductor", The First International Symposium on Integrated Magnetics 2023 (iSIM 2023) , Sendai, Japan, May 2023.
- Y. Takamura, H. Nitta, K. Kawahara, T. Kaneko, R. Ishido, T. Miyazaki, N. Hosoda, K. Fujisaki, S. Nakagawa, "Fabrication of CoFeB-SiO2 films with large uniaxial anisotropic by facing target sputtering and its application to high frequency planar type spiral inductors ", Intermag2023, MOA-05,Sendai, Japan, May 2023.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：1件