【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23WS0165
利用課題名 / Title
電解析出法を用いた磁性CoPt多層膜の作製
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学 / Waseda Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
エレクトロデバイス/ Electronic device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
本間 敬之
所属名 / Affiliation
早稲田大学 先進理工学部 応用化学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
荒木大輝,鈴木律兵,Mahmudul Hasan
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
齋藤美紀子,星野勝美
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
WS-032：グロー放電分光分析装置
WS-002：電子ビーム蒸着装置
WS-021：触針式段差計
WS-027：ダイシングソー
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
次世代の磁気メモリとして期待される縦型磁壁移動メモリは磁気異方性の異なる磁性層を交互に積層した構造を有する．本検討では縦型磁壁移動メモリに適用可能な多層構造を電析析出法を用いて作製する．
実験 / Experimental
EB蒸着装置を用いてシリコンウエハ上にCr/Auを蒸着し，ダイシングソーを用いて適切なサイズにカットし基板を作製した．電析により作製したCoPt薄膜の膜厚を触針式段差計で，組成をグロー放電分光分析装置で分析した．
結果と考察 / Results and Discussion
電析時間を増加させるにつれて電析CoPt薄膜中のCo組成が増加した．電析初期は電析浴組成よりもPt組成が大きいことが確認された．Ptの方が標準電極電位が貴であるため，電析初期では析出が優先的に起こるが，析出が進むにつれて拡散層が増大し溶液沖合からのPtイオンの供給量が減少するためにPt組成が減少していくと考えている．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 荒木大輝，園部義明，本間敬之，”低濃度浴系を用いたCoPt電析薄膜の作製” 2023電気化学秋季大会（福岡），令和5年9月11日
- Hasan Md Mahmudul，黄童雙，齋藤美紀子，高村陽太，本間 敬之，"High aspect ratio electrodeposited CoPt multilayered alloy nanowires for memory application", 2023電気化学秋季大会（福岡），令和5年9月11日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件