【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1356
利用課題名 / Title
人工聴覚上皮の作製プロセス最適化と聴覚神経刺激用電極の創製
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
PVDF-TrFE,X線回折法,強誘電体特性,強誘電ポリマー,X線回折/X-ray diffraction
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
山崎 嘉己
所属名 / Affiliation
大阪大学 大学院基礎工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
松嶋朝明
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では、再現性のある人工聴覚上皮の作製を目的とし、様々な条件で作製されたPVDF-TrFEの物性評価を行う。すなわち、X線回折法により結晶構造を解析し、ヒステリシスループの測定から強誘電性を評価する。その結果をもとに、デバイスの作製スキームを最適化する。
実験 / Experimental
サンプルには、ガラス基板上に、Ti/Au/Ti電極およびPVDF-TrFEを成膜したものを試用する。初めに、X線解析装置を用いて結晶構造を評価した。次に、強誘電体特性評価装置を使用し、ヒステリシスループを計測した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1(a)にPVDF-TrFEのX線回折装置による測定結果を示す。縦軸を散乱強度、横軸を回折角度とした。その結果、2θ=20ﾟ、40ﾟ、80ﾟ近傍で明確なピークが観測された。これは、それぞれガラス基板および電極に由来していると考えられ、PVDF-TrFEのピークは確認されなかった。つまり、作製したPVDF-TrFEの結晶性は低く、アニーリングの条件が最適ではないことがわかった。現段階では、アニーリングを130℃で2時間行っているが、今後の作製において単結晶となる時間を探索する。また、図1(b)にヒステリシスループの計測結果を示す。縦軸を分極、横軸を電界とした。その結果、電界を0とした場合も分極が維持されており、強誘電体特有のヒステリシスループを観測することができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 (a) PVDF-TrFEの回折パターンおよび (b) ヒステリシスループ．
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
試行的利用制度の利用あり
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 山﨑督三，山崎嘉己，川野聡恭，日本機械学会関西支部2022年度関西学生会卒業研究発表講演会，2023年3月15日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件