【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.04.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22WS0110
利用課題名 / Title
ガラス基板に対するマイクロピラーアレイの作製
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
レーザー直接描画、2面コーナーリフレクタアレイ,リソグラフィ/Lithography,光導波路/ Optical waveguide
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
宇田川 諒
所属名 / Affiliation
早稲田大学理工学術院
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
市川奈緒子
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
加藤 篤
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では，2面コーナーリフレクタアレイ（DCRA）の実現を最終目標とし，ガラス基板上にマイクロピラーアレイを作製する．作製方法としては，作製コストを最小限に抑えるため，レーザー直接描画を採用する．本研究で作製するマイクロピラーは高さが高いため，フォーカスとドーズ量に関する条件が不明瞭な状態である．そこで今回，各描画条件に対する造形結果を観察し，設計形状通りの造形を実現する最適な描画条件を把握した．
実験 / Experimental
はじめに，SU-8をガラス基板上にスピンコートする．その後，触針式段差計を用いてコートしたSU-8の平坦性を確認する．平坦性を確保できた試料については，レーザー直接描画装置により，フォーカス位置とドーズ量を変化させながらマイクロピラーアレイを作製し，SEMを用いて作製結果を観察し，設計形状と作製形状を比較評価する．
結果と考察 / Results and Discussion
本実験により，以下の2つの知見が得られ，設計通りのマイクロピラーアレイ形状を実現した．1つ目の知見は，図１のドーズ量が2000 mJ/cm2のときに顕著であるが，フォーカス位置がプラス側である場合は逆テーパ形状となり得るが，フォーカス位置がゼロまたはマイナス側の条件では順テーパ形状になることである．2つ目の知見は，ドーズ量が大きくなると順テーパ形状が強くなることである．以上の結果より，ピラーのエッジ形状を保ち，テーパ形状を避けるような好ましい条件は，ドーズ量は1000 mJ/cm2で，フォーカスが0であることが得られた．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 レーザー直接描画により作製したマイクロピラーアレイ.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件