利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.04.27】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22WS0110

利用課題名 / Title

ガラス基板に対するマイクロピラーアレイの作製

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学 / Waseda Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

レーザー直接描画、2面コーナーリフレクタアレイ,リソグラフィ/Lithography,光導波路/ Optical waveguide


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

宇田川 諒

所属名 / Affiliation

早稲田大学理工学術院

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

市川奈緒子

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

加藤 篤

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-016:レーザー直接描画装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

本研究では,2面コーナーリフレクタアレイ(DCRA)の実現を最終目標とし,ガラス基板上にマイクロピラーアレイを作製する.作製方法としては,作製コストを最小限に抑えるため,レーザー直接描画を採用する.本研究で作製するマイクロピラーは高さが高いため,フォーカスとドーズ量に関する条件が不明瞭な状態である.そこで今回,各描画条件に対する造形結果を観察し,設計形状通りの造形を実現する最適な描画条件を把握した.

実験 / Experimental

はじめに,SU-8をガラス基板上にスピンコートする.その後,触針式段差計を用いてコートしたSU-8の平坦性を確認する.平坦性を確保できた試料については,レーザー直接描画装置により,フォーカス位置とドーズ量を変化させながらマイクロピラーアレイを作製し,SEMを用いて作製結果を観察し,設計形状と作製形状を比較評価する.

結果と考察 / Results and Discussion

本実験により,以下の2つの知見が得られ,設計通りのマイクロピラーアレイ形状を実現した.1つ目の知見は,図1のドーズ量が2000 mJ/cm2のときに顕著であるが,フォーカス位置がプラス側である場合は逆テーパ形状となり得るが,フォーカス位置がゼロまたはマイナス側の条件では順テーパ形状になることである.2つ目の知見は,ドーズ量が大きくなると順テーパ形状が強くなることである.以上の結果より,ピラーのエッジ形状を保ち,テーパ形状を避けるような好ましい条件は,ドーズ量は1000 mJ/cm2で,フォーカスが0であることが得られた.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig.1 レーザー直接描画により作製したマイクロピラーアレイ.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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