利用報告書 / User's Report

【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.04.27】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22WS0104

利用課題名 / Title

ダイヤモンド中の浅い単一NVセンター配列の共焦点顕微鏡像観察

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

ダイヤモンド、NVセンター、共焦点像,光学顕微鏡/Optical microscopy,スピントロニクスデバイス/ Spintronics device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

津川 雅人

所属名 / Affiliation

早稲田大学理工学術院

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

臼井俊太郎,池田翔

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

関口哲志,藤田理紗,谷井孝至

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-031:共焦点レーザー走査型顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ダイヤモンド中のNVセンターは置換窒素と原子空孔からなる不純物欠陥である。ダイヤモンドのバンドギャップ中に特異な欠陥準位を形成し、パルス光磁気共鳴計測を用いた量子計測に用いられる。特に、ダイヤモンド表面近傍に形成した単一NVセンターは、表面上の分子と磁気双極子-双極子相互作用を介して結合するため、表面分子のESRやNMR用の蛍光性磁気プローブとして活用できる。早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンターに新たにレーザー走査型共焦点顕微鏡が導入されるにあたり、上記の応用研究への活用を見込めるかの可能性調査として、自前で作製した単一NVセンター配列の計測を行った。

実験 / Experimental

5mm角のダイヤモンド基板に成長させた12C濃縮CVDホモエピタキシャルダイヤモンド層(100ミクロン厚)にPMMAレジスト(200nm厚)をスピンコートし、電子ビーム描画装置(WS-015は以前に使用)を用いて直径の異なるナノホールを配列形成した。窒素イオン注入(2.5keV)を行った後、レジストを除去して熱処理(水素フォーミングガス、1000℃、30min)を施して、NVセンターを形成した。どの位置に何個のNVセンターが形成されているかについては、予めlab-madeのレーザー走査型共焦点顕微鏡を用いた光磁気共鳴計測により測定された。この計測結果と共焦点レーザー走査型顕微鏡(WS-031)での計測結果を比較検証することにより、新規導入の共焦点レーザー走査型顕微鏡の実行可能性を調べた。

結果と考察 / Results and Discussion

共焦点レーザー走査型顕微鏡(WS-031)で取得した単一NVセンター配列の共焦点顕微鏡像をFig.1に示す。NVセンターアンサンブルで形成した位置マークb55(共焦点像では反転している)の周囲の単一NVセンターが計測できることを実験的に確認した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig.1 単一NVセンター配列の共焦点顕微鏡像


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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