利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.28】【最終更新日:2023.05.21】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22HK0111

利用課題名 / Title

マイクロ開口パターン基板内への誘電体多層膜光学特性評価および成膜構造評価

利用した実施機関 / Support Institute

北海道大学 / Hokkaido Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

石田 周太郎

所属名 / Affiliation

santec株式会社 OISカンパニー研究開発グループ

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

松尾保孝,山﨑郁乃

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

HK-408:大気中紫外光電子分光装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

誘電体多層膜を用いた光学コーティングは、使用する材料(屈折率分散)および膜厚を設計することで、さまざまな波長帯、帯域、および反射率を実現し、広範なデバイスへ応用されている。真空蒸着装置を用いて製作する誘電体多層膜をマイクロパターン開口内へ成膜する場合、開口による蒸着ガス流束の変化や側壁への原料付着による濃度変化により平坦な基板の場合とは異なる構造が成膜されるため、マイクロパターン開口内の光学特性の評価を基にした構造評価および膜構造の解析が必要であり、顕微紫外可視近赤外分光光度計を用いて上記評価結果に対する解析を行った。

実験 / Experimental

マイクロパターン開口内に成膜した誘電体多層膜の光学特性(反射率、透過率)を600 nm ~ 2000 nmに渡る帯域で顕微紫外可視近赤外分光光度計を用いて評価し、誘電体多層膜の膜構造および基板の吸収特性の解析を実施した。

結果と考察 / Results and Discussion

マイクロパターン開口内に成膜したサンプルと平坦基板上に成膜したサンプルに対して、顕微および平行光を用いた紫外可視近赤外分光光度計のスペクトル評価(反射率、透過率)を基に解析を実施し、成膜構造の差異およびパターン開口内への成膜プロセス条件へのフィードバックが可能なことを確認した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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