【公開日:2023.08.01】【最終更新日:2023.05.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT0005
利用課題名 / Title
電子デバイスにおける薄膜層のモルフォロジーとデバイス特性に関する研究/開発
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-
【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)-
キーワード / Keywords
TEM,NBD,酸化物半導体,電子顕微鏡/Electron microscopy,電子回折/Electron diffraction
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)
田中 壮太郎
所属名 / Affiliation
シャープディスプレイテクノロジー株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
清村 勤
利用形態 / Support Type
(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-402:球面収差補正透過電子顕微鏡
KT-403:モノクロメータ搭載低加速原子分解能分析電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ディスプレイデバイスの酸化物半導体層の結晶性を調査し、性能向上に繋がる有益な情報を得た。
実験 / Experimental
当社のFIB装置にて薄片加工した断面試料を貴学のJEM-2200FS(200kV-TEM-NBD)にて分析した。
結果と考察 / Results and Discussion
既製品の200kV-TEM-NBD分析の結果、酸化物半導体層が積層であり、各層の結晶性が判明した(図1)。今回の有益なデータはデバイス特性の向上に大きく寄与するものである。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 酸化物半導体層のTEM像、NBD像
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)
京大化研特定研究員の清村勤氏に技術補助していただき、ここに感謝の意を表します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件