【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.12】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22HK0094
利用課題名 / Title
金属含有レジストのイオンビーム照射の基礎的検討
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
岡本 一将
所属名 / Affiliation
大阪大学 産業科学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
柴山 環樹,渡辺 精一
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
金属含有のレジスト材料はEUVリソグラフィ用次世代材料として期待されている。そこでこれらの薄膜試料をターゲットとしてマルチビーム超高圧電子顕微鏡を用いてイオンビーム照射場でのパターン化についての基礎的検討を行った。
実験 / Experimental
表面処理を行ったSiウエハにカルボン酸配位子を持つ亜鉛と銅をレジストとしてスピンコートにより成膜を行い、試料を準備した。その後マルチビーム超高圧電子顕微鏡の300kVイオン加速器を用いて、Arイオンの照射を行った。その後現像処理を行い、７００℃で２時間加熱を行い、生成した試料のSEM観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
イオンビームの照射線量については、電子線でパターニング可能な線量に換算した量に設定し、照射を行った。図は亜鉛含有試料で照射部分が現像（トルエン）により溶け残った部分のSEM像である。結果として、ZnO膜の生成が確認でき、イオンビーム照射においてもネガ型レジストとしての機能が確認できた。また銅含有試料においても同様にCuO膜の形成が認められた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Arイオンビーム露光により生成したZnO膜のSEM像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
柴山 環樹先生にはマルチビーム超高圧電子顕微鏡のオペレーションで大変お世話になりました。厚くお礼申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件