【公開日：2024.08.20】【最終更新日：2024.06.05】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1257
利用課題名 / Title
導波モード共鳴を用いた新規光学デバイスに関する研究２
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
集積フォトニクス, 導波路グレーティング,リソグラフィ/Lithography,EB,フォトニクス/ Photonics,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
井上 純一
所属名 / Affiliation
京都工芸繊維大 大学院工芸科学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
楊知雨,石岡誠太
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大村英治,江崎裕子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術相談/Technical Consultation
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-101：高速高精度電子ビーム描画装置
KT-116：近接効果補正システム
KT-230：UVオゾンクリーナー・キュア装置
KT-219：ダイシングソー
KT-221：紫外線照射装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高屈折率導波路に90度回転対称の二重周期二次元グレーティングを集積することで、偏光・回転角無依存かつ入射角低依存の狭帯域バンドパスフィルタが期待できる[1]。本研究では構造を設計し、その試作検討を行っている。本課題では、エッチングにより良好なグレーティング形状が得られるよう条件最適化を行った。
実験 / Experimental
Fig. 1に設計構造を示す。Silicon on Quartz基板のSi層をパターンニングしてグレーティングとする想定である。試作のため、Si基板の表面にKT-101：高速高精度電子ビーム描画装置とボッシュプロセスエッチングによりグレーティングを作製した。
結果と考察 / Results and Discussion
作製したSiグレーティングの走査電子顕微鏡（SEM）画像をFig. 2に示す。溝幅が設計よりも40 nmほど拡がっていたが、垂直な壁面をもつ高アスペクト比の凹凸形状が得られた。今後、溝幅の変化を逆算したパターンを描画することで所望の溝幅のグレーティングが得られると期待される。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Schematic diagrams of the designed device.
Fig. 2 SEM images of Si grating
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
参考文献：[1] 楊知雨, 他, 2021年秋応物, 13a-N103-3
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件