【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.23】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TT0025
利用課題名 / Title
微細凹凸を有する基板へのレジストパターニング
利用した実施機関 / Support Institute
豊田工業大学 / Toyota Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography,MEMSデバイス/ MEMS device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐野 耕平
所属名 / Affiliation
AGC株式会社先端基礎研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
微細構造が形成された基板上に面内厚みの均一なフォトレジストのコーティングおよびパターニング方法を検討した。一般的なレジスト付与の方法であるスピンコートでは液の表面張力の影響によって段差構造付近に膜厚分布の不均一な領域が生じてしまう。そこで、アイセロ社製のSOシートを用いたレジスト転写技術の使用を試みた。その結果、微細溝付き基板に対して厚み分布の均一なフォトレジストの付与に成功した。また、転写レジストへの露光および現像を行うことで、フォトリソパターニングが可能であることを確認した。
実験 / Experimental
レジストの転写対象は異方性エッチングによる垂直加工で微細溝を形成した基板を使用した。アイセロ社製のSOシート上にフォトレジストをスピンコートすることで、シート上に厚み分布の均一なレジスト膜を作製した。SOシート上のレジスト面を微細構造付き基板に転写させた後に、露光および現像を行うことで転写レジストに対する微細溝近傍でのフォトリソパターニングを試みた。
結果と考察 / Results and Discussion
微細溝付き基板に対し、分布の均一なレジスト転写に成功した。また、転写レジストに対し、フォトリソパターニングが可能であることを確認した。微細溝の近傍であっても、通常の平面基板上の露光と同等の精度でパターニングが可能であることを確認した。SOシートは露光に使用する短波長に対して透過性が優れた支持体で構成されている。そのため、支持体による平面性の担保と透過性の良い露光の両立が微細構造上でのパターニングを可能にしたと考察した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件