【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.07.28】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22OS1057

利用課題名 / Title

レーザー加工用アルミマスクの作製

利用した実施機関 / Support Institute

大阪大学 / Osaka Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies

キーワード / Keywords

リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

山口 敦

所属名 / Affiliation

株式会社東海理化

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

OS-103：超高精細電子ビームリソグラフィー装置
OS-109：深掘りエッチング装置
OS-117：EB蒸着装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

　レーザーで狙いのエリアに加工するためマスクを用いるが、市販のマスク（クロム膜）ではクロムが蒸発してしまい使用できないため、アルミ膜をリソグラフィでパターニングしてマスクとすることを検討している。
　リソグラフィによるマスク形状の加工で、狙いの精度で加工できるのか確認した。

実験 / Experimental

　　□25mmの合成石英ガラスにアルミ膜を80nm成膜したものを基板とした。基板にレジストを300nm塗布し、超高精細電子ビームリソグラフィ装置で円形パターンを描画した。現像後のレジストに電子ビーム蒸着装置でクロム膜を80nm成膜した後、レジストをリフトオフで除去してクロム膜をパターニングした。このクロム膜をマスクとして下地のアルミ膜を深堀エッチング装置で加工して、アルミ膜をパターニングした。
　このサンプルを自社に持ち帰り、顕微鏡でパターニングの加工精度を確認した。

結果と考察 / Results and Discussion

　図1にアルミ膜をエッチング加工したマスクの表面形状を観察した結果を示す。ピッチを測定した結果、365.5μmで狙い値±1μmの間に収まっていた。
　図2にφ25μmの円形状に加工したパターンの表面形状を示す。直径は25.9μmであり狙い値±1μmの範囲に収まっていた。円の外形も歪みや欠けは見られず、パターニング精度は十分に要求を満たしていた。
　以上より狙いの精度での加工は可能であることが判断できた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1　マスクの表面形状（ピッチ測定）

図2　円形状に加工したパターン（直径測定）

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

本課題にあたり、事前の相談から装置のOJTまで近田様、岩城様に色々とご助力頂きありがとうございました。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件