【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.07.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22OS1051
利用課題名 / Title
新規EBレジスト材料の開発
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学 / Osaka Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
電子線描画（EB）,有機系機能性材料,リソグラフィ/Lithography,EB
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
河野 晃丈
所属名 / Affiliation
株式会社日本触媒
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
宇賀村忠慶
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
有機高分子には、ポリメチルメタクリレート（PMMA）の様に、電子線を露光することで分解し、EBレジストとして利用されているものがある。開発したポリマーにEB レジスト適性があるかどうかの評価を行う為、貴大学保有の電子線露光装置を用いて電子線描画を行った。
実験 / Experimental
超高精細電子ビームリソグラフィー装置（I25）を用いて、Pitch幅 200nm、Dose量 100～500μC/cmで電子線の描画を行った。評価したサンプルは、弊社で開発したポリマーであるPoly1（主鎖に環構造を有し、芳香環を含むポリマー）とPoly2（主鎖に環構造を有し、ハロゲン基を含むポリマー）、比較用のZEP520とPMMAの4サンプルである。膜厚は100～200nm程度で実施した。電子線露光後は、キシレンで40秒、イソプロパノールで30秒洗浄して、現像処理を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1に、電子線露光後に現像処理を行ったレジストのレーザー顕微鏡の倍率10倍の画像を示す。ZEP520とPMMAでは10倍の倍率でも比較的容易に分解が確認された。一方、開発したPoly1は10倍の倍率だと300～500μC/cm2でかろうじて分解が確認される程度で、Poly2では全く分解が確認できなかった。Fig.2は倍率を150倍に拡大したものであるが、ZEP520とPMMAではLine＆Spaceが明瞭であったのに対し、開発品はLine＆Spaceの見分けがつきにくく、100μC/cm2では観察不可であった。以上より、今回開発したPoly1、Poly2共に電子線に対する感度が低く、EBレジストに適用するには改良が必要であることが分かった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 現像後の倍率10倍のレーザー顕微鏡像
Fig.2 現像後の倍率150倍のレーザー顕微鏡像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件