【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.07.28】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22OS1047

利用課題名 / Title

金属酸化物の結晶性及び表面状態の解明

利用した実施機関 / Support Institute

大阪大学 / Osaka Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

ヘテロ成長, 薄膜, 強相関酸化物,X線回折/X-ray diffraction

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

金　 庚民

所属名 / Affiliation

大阪大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

阿部真之

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

OS-120：薄膜X線回折装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

本研究室では各種金属薄膜の作製と、走査型プローブ顕微鏡による原子分解能測定を行なっている。作製した薄膜の結晶性評価を行う必要があり、本ARIM事業の支援のもと、X線回折装置によるAnatase TiO₂薄膜の結晶配向性評価を行なった。

実験 / Experimental

申請者らは、超高真空環境下においてSrTiO₃(100)基板上にパルスレーザー堆積法（Pulse Laser Deposition)でAnatase TiO₂(001)薄膜を成膜した。本試料は2mm x 10mm x 0.5 mmのサイズの短冊型の試料であり、成長したAnatase TiO₂薄膜の結晶配向性を調べるためには2θ-θモードのXRD測定が必要となる。そこで、大阪大学産業科学研究所先端機器室が管理する薄膜 X 線回折装置 リガク “Ultima IV”を用いて、当研究室で作製し持ち込んだAnatase TiO₂薄膜に対してXRD測定を行なった。

結果と考察 / Results and Discussion

Anatase TiO₂薄膜に対して行なったXRD測定結果を図１に示す。SrTiO₃(100),(200),(300)のピークが22.79°, 46.54°, 72.68°付近に強くみられ、Anatase TiO₂(004)のピークが37.79°付近に見られた。これらのピーク位置はデータベースと一致する結果となっており、SrTiO₃(100)基板上に成膜したAnatase TiO₂薄膜が[001]一軸配向で成長していることを示す。以上により、本研究目的であるSrTiO₃(100)基板上に成膜したAnatase TiO₂薄膜の結晶配向性の評価に成功した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図１：SrTiO₃(100)基板上に成膜したAnatase TiO₂(001)薄膜表面のXRD測定結果。

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件