【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.07.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22OS1026
利用課題名 / Title
プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition,EB
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
菅野 公二
所属名 / Affiliation
神戸大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
OS-103：超高精細電子ビームリソグラフィー装置
OS-117：EB蒸着装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
波長依存性を有する近赤外線光吸収体をSi-MEMSセンサに集積した近赤外線センサの実現を目的に，ナノスケールのグレーティング構造の作製を電磁ビーム描画装置と電子ビーム蒸着装置を用いて行った。
実験 / Experimental
Si基板上に電子ビームリソグラフィを用いてレジストパターンを作製し，それを用いてSiのエッチングを行った。数百nmの溝を有するラインアンドスペースのナノパターンを作製した。ラインの間隔は500～2000nmとした。その後，電子ビーム蒸着装置を用いてCrとAuの薄膜によりグレーティング構造を被覆した。最後に，SiまたはSiNにより構造を被覆した。作製した構造の反射スペクトルを分光光度計により測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
作製した構造をSEMで確認したところ，電子ビームリソグラフィとエッチング工程でラインの幅が小さくなったが，グレーティング構造ができていることを確認した。その後，反射ペクトルを評価した結果，吸収ピークが確認できたとともに，ラインの間隔によって吸収ピークが長波長側にシフトする結果が得られた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件