【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.07.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22OS1025
利用課題名 / Title
電子線リソグラフィーを利用した高アスペクト配向ナノワイヤアレイの作成
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学 / Osaka Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography,スパッタリング/Sputtering,EB
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
羽原 英明
所属名 / Affiliation
大阪大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
花本拓翔,藤域淳平,藤域淳平,上山慶典,小野晴樹
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
OS-113：多元DC/RFスパッタ装置
OS-114：RFスパッタ成膜装置（金属成膜用）
OS-105：高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
OS-109：深掘りエッチング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノワイヤ構造を使用すると高強度レーザーの吸収率が増加し、高効率にX線、高速粒子を得ることができる。今回、シミュレーションを用いて求めた最適な構造(Fig.1 ,Table.1)のナノワイヤ構造の作成を行った。
実験 / Experimental
レジストを塗布したSi基板に、電子ビームリソグラフィー装置を使用してビームを照射するした。ビーム照射後の基板上に、RFスパッタ装置でCrを30 nm製膜した。最後に深堀エッチング装置を使うことでワイヤ構造の製作を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
サンプルのSEM画像をFig.2に示す。高い周期性かつ均等な高さをもったナノワイヤ構造を得ることができた。ワイヤの太さが細いと、高さを大きくした際に構造が壊れやすい問題があるため、高さに合わせ太さを調節する必要がある。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Structure of Nanowire target and the parameters.
Overview of SEM image of Nanowire target.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
-
Amit D. Lad, Luminous, relativistic, directional electron bunches from an intense laser driven grating plasma, Scientific Reports, 12, (2022).
DOI: 10.1038/s41598-022-21210-7
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 花本拓翔、羽原英明、"高強度レーザーと配向ナノワイヤターゲットの相互作用による高輝度ガンマ線生成"、レーザー学会学術講演会第43回年次大会、ウインク愛知、2023/1/20
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件