【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.07.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22OS1019
利用課題名 / Title
ニューロモルフィック分子ネットワークデバイス用ナノ電極の製作
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition,EB
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
木元 克
所属名 / Affiliation
大阪大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
西村優汰（M1）,松本卓也（教授）
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
OS-103：超高精細電子ビームリソグラフィー装置
OS-117：EB蒸着装置
OS-105：高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
分子エレクトロニクス研究において、分子固有の物性現象を発現させるためには、微細な構造を有する電極を用いることが必要である。今回、大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点微細加工プラットフォームの設備を利用してナノギャップ電極の作製を行った。
実験 / Experimental
【利用した主な装置】
超高精細電子ビームリソグラフィー装置、高速大面積電子ビームリソグラフィー装置、EB蒸着装置
【実験方法】
ギャップ間が100 nmのナノギャップ電極を作製した。電極中心部を超高精細電子ビームリソグラフィー装置で描画し、現像後にEB蒸着装置による金電極の成膜とリフトオフを行った。その後、パッド部を高速大面積電子ビームリソグラフィー装置を用いて重ね合わせ描画した。パッド部も同様に、現像後にEB蒸着装置による金電極の成膜とリフトオフを行った。
（Figure 1に電極中心部とパッド部のCAD図面を示す。）
結果と考察 / Results and Discussion
作製したナノギャップ電極のSEM像をFigure 2に示す。電子ビームリソグラフィー装置を用いることでナノメートルオーダーの微細な加工を行うことができた。
超高精細電子ビームリソグラフィー装置のみを用いて電極中心部とパッド部を一度に描画してしまう方法も考えられるが、装置の稼働時間が非常に長くなってしまうことが予想されるため、工程は増えてしまうが重ね合わせ描画を採用している。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Figure 1
Figure 2
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件