利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.28】【最終更新日:2023.05.12】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22NM0106

利用課題名 / Title

コールドスプレー法による新たな超伝導加速空洞製造技術の開発

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

Cold spray,質量分析/Mass spectrometry,溶接技術/ Welding technology,3D積層技術/ 3D lamination technology


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

嶋田 慶太

所属名 / Affiliation

高エネルギー加速器研究機構

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術補助/Technical Assistance(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-205:飛行時間型二次イオン質量分析装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ターゲットに粒子を固相のまま積層するコールドスプレー(CS)法により、超伝導加速(SRF)空洞の主要材料のニオブ(Nb)膜を形成する。CSがSRF空洞のコーティング技術として用いられた前例はなく、本技術のフィージビリティの検証を行っている。今回の分析ではCSにより作製したNb膜の不純物(おもに水素、窒素、酸素を想定)の分析を行い、表層部から内部方向での変化を検証した。

実験 / Experimental

CS法によりCu基板上に作製したNb膜を飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)により分析した。

結果と考察 / Results and Discussion

深さ方向への元素マッピングが取れたことは有用であったが、イオンミリングでのNbの時間当たりの除去量についてはAFMによる検証、質量の定量分析についてはさらなる実験を要する。バルクNbとの比較による定性的な分析も可能ではあるが、詳細な分析以前に、超伝導転移の確認とRRRの測定が望まれると判断して本年度はTOF-SIMSでの分析を終了している。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

TOF-SIMSでの計測はNIMSの宮内直弥氏から大いに協力いただいたので、ここに感謝の意を表する。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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