利用報告書 / User's Report

【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.05.19】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT1120

利用課題名 / Title

ナノピクセル光集積回路の研究

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions

キーワード / Keywords

膜加工・エッチング/Film processing and Etching,EB,光導波路/ Optical waveguide,ナノフォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,フォトニクス/ Photonics


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

浜本 貴一

所属名 / Affiliation

九州大学大学院総合理工学研究院

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

姜 海松,桒畑 亮太

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

藤原 誠,肥後 昭男,水島 彩子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-503:超高速大面積電子線描画装置
UT-855:高精細電子顕微鏡
UT-600:汎用ICPエッチング装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ナノピクセル光集積回路を実現するため、東京大学の設備を利用して、百ナノメートル径程度のナノホールの電子線描画及びエッチングを行い、高精細電子顕微鏡で観察を行った。

実験 / Experimental

① 超高速大面積電子線描画装置(UT-503)を利用して、ナノピクセル光集積回路の電子線描画を行った。② ICPエッチング装置(UT-600)を利用して、ナノピクセル光集積回路のエッチングを行った。③ 高精細電子顕微鏡(UT-855)を利用して、プロセスしたナノピクセル光集積回路の観察を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 1 にプロセスしたナノホールのSEM観察結果を示す。超高速大面積電子線描画装置のCharacter Projectionを利用して、直径が90 nm~200 nmまでのナノホールのパターン形成に成功した。ICPエッチング装置によりナノホールのエッチングを行い、SOI基板上でのナノピクセル構造の光集積回路を実現した。これらの実験を通じて、ナノホールのサイズのプロセス誤差を把握し、プロセス誤差を考慮したナノホールの設計ができ、所要のナノホールを実現することができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 SEM image with different nono-hole diameters. (a) 90 nm diameter nano-holes;  (b) 120 nm diameter nano-holes; (c) 200 nm diameter nano-holes.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

・参考文献  ・セコム科学技術振興財団一般研究助成 ・藤原誠, 肥後昭男, 水島彩子(東京大学)に感謝します。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 姜 海松 et al., “Demonstration of space-mode “compressor” by using nano-pixel”, MOC 2022, 令和4年9月28日
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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