【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT1108
利用課題名 / Title
磁性／貴金属積層構造の微細加工
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
磁気ナノフォトニクス,電子顕微鏡/Electron microscopy,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,EB,ナノフォトニクスデバイス/ Nanophotonics device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
安川 雪子
所属名 / Affiliation
千葉工業大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
劉家祥
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-503：超高速大面積電子線描画装置
UT-855：高精細電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
磁気ナノフォトニクスの研究を進めている。東京大学の設備を利用して金属層／誘電層／合金層などから構成される積層構造材料のナノ微細加工、作製した構造のSEM観察を行った。ナノ微細加工に先立ち、複数の層から構成される積層構造を如何に微細加工するか、詳細な技術相談を繰り返した。
実験 / Experimental
多層積層構造試料にレジスト（ZEP520A-7）を塗布し、技術補助を利用して電子線描画装置（F7000S）で直描露光を行った。現像した後、CE-300 ICP-RIEを用いてエッチングを行い、レジストを剥離した。得られた構造をSEM（Regulus 8230）で観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1に示すように、導電性～絶縁性を示す異種薄膜の多層積層構造の微細加工を実施するため、数回の技術相談を慎重に重ね実験計画を立てた。Fig.2に現像後のレジストのSEM像を示す。この段階ではほぼ設計どおりの構造を得ることができた。一方で、エッチング及びレジストの剥離については、条件の最適化に課題が残った。今後引き続きこれらの条件を探索することとなった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Blueprint of experimental plan
Fig. 2 Hole arrays of a resist mask
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
共同研究者：秋田県産業技術センター 山根治起様
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 劉家祥，“磁気ナノフォトニクスの磁気光学効果による光制御機能の向上” 電気学会東京支部主催 第12回学生研究発表会, 令和4年8月26日．
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件