利用報告書 / User's Report | ARIM Japan公式ホームページ_マテリアル先端リサーチインフラ

【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.12】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT1104

利用課題名 / Title

波長計測デバイスの作製

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

スパッタリング/Sputtering,EB,高品質プロセス材料/ High quality process materials

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

太田涼介

所属名 / Affiliation

東京大学工学部

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

米谷玲皇（東京大学大学院新領域創成科学研究科）

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-711：LL式高密度汎用スパッタリング装置(2019)
UT-704：高密度汎用スパッタリング装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

SnO₂薄膜を利用した光波長センサデバイスを作製した。この作製では主に、LL式高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4EP-LL），高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4ES）を使用した。

実験 / Experimental

SiO₂/Si基板上に電子ビームリソグラフィーにより形成されたレジストパターンに対して、LL式高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4EP-LL），或いは高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4ES）を用いてSnO₂膜を製膜し、リフトオフを行うことにより、SnO₂からなる波長センサパターンを作製した。その後、電子ビームリソグラフィー，スパッタリング，リフトオフプロセスにより、Ptからなる電極をSnO₂上に作製し、波長センサを作製した。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 1に波長センサ作製結果となる光学顕微鏡写真を示す。SnO₂膜からなる受光部が2つのPt電極に挟まれた構造となる。このように、先述したプロセスによりSnO₂を受光部として有する波長センサデバイスの作製を達成した。光波長は光の基礎物性であり、様々なアプリケーションへの展開が期待される。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 SnO₂-based wavelength sensing device

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

太田涼介, 割澤伸一, 米谷玲皇, “二酸化スズの吸光特性を利用した波長センサ”, 第70回応用物理学会春季学術講演会, 16a-B410-7, 2023年3月16日

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件