利用報告書 / User's Report

【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.05.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT1079

利用課題名 / Title

Cuめっき表面の変色分析および原因究明

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

金属ナノインク,電子顕微鏡/Electron microscopy,高品質プロセス材料/ High quality process materials


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

藤島 翔太

所属名 / Affiliation

エレファンテック株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-104:低真空走査型電子顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

弊社の独自製法であるピュアアディティブ法で製造したフレキシブル基板において、Cuめっき後の表面に変色が見られたのでSEM-EDSを用いて元素分析の上、原因究明を進める。

実験 / Experimental

Cuめっき後に変色があった箇所を上面から東京大学ARIMのSEM-EDSを用いて元素分析を行う。サンプル作製方法は以下の通りで、弊社フレキシブル基板製造プロセスであるピュアアディティブ®法に基づく。
(1) 基材となるポリイミド上に金属ナノインクを印刷
(2) インク焼成
(3) 金属ナノインク上に無電解Cuめっき
(4) アニール
(5) 表面洗浄および防錆処理
(6) 目視外観観察
(7) 変色した箇所についてSEM-EDSで元素分析

結果と考察 / Results and Discussion

当該箇所の元素分析の結果、特異元素として炭素 (C) および酸素 (O) を検出した。洗浄工程で用いる洗浄液には有機物を含んでいることから液由来の元素と推察した。また調査の結果、洗浄後のリンスで用いる純水交換のタイミングが不定期となっており、標準化されていないことが判明したため社内ルールとして定めるよう改善を今後行っていく。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig.1 洗浄後のCuめっき表面 外観写真



Fig.2 変色箇所のSEM-EDSによる元素分析結果 (1)



Fig.3 変色箇所のSEM-EDSによる元素分析結果 (2)



Fig.4 変色箇所のSEM-EDSによる元素分析結果 (3)



Fig.5 変色箇所のSEM-EDSによる元素分析結果 (4)


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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