【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT1074
利用課題名 / Title
光メタサーフェスの試作
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
メタサーフェス,リソグラフィ/Lithography,EB,メタマテリアルメタマテリアル/ Metamaterial
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
信川 輝吉
所属名 / Affiliation
NHK放送技術研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
東田 諒
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
藤原 誠
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-503：超高速大面積電子線描画装置
UT-855：高精細電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
超高速大面積電子線描画装置(F7000S-VD02)のCharacter Projectionモードを利用して光メタサーフェスを作製するために、ドーズ量と描画パターン寸法の関係性をSEMにより評価した。
実験 / Experimental
石英基板上にOAP、電子線レジストZEP520A-7、エスペイサーを順にスピンコートした。F7000S-VD02により、ドーズ量を90、95、100 μC/cm2の3通りに設定して、幾何位相レンズ、回折格子のメタサーフェスを実現するための長方形の周期配列を描画し、現像した。現像結果をSEMで観察し、ドーズ量と描画パターン寸法の関係性を評価した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 1にSEMで観察した結果の一例を示す。目的の幾何位相レンズ、回折格子のメタサーフェスを実現する長方形の周期配列のパターンを描画できていることを確認した。また、ドーズ量90、95、100 μC/cm2の場合の描画パターンの面積比は、1 : 1.08 : 1.17であり、ドーズ量の増加に応じて、描画パターンが拡大する傾向を確認した。今後、ドーズ量と描画パターン寸法の関係性を加味して目的寸法の構造を有するメタサーフェスを作製する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 SEM image of a developed sample.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本課題に取り組むにあたり、F7000S-VD02の操作方法をご指導くださった藤原誠様に感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件