【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.04.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT1051
利用課題名 / Title
微細加工技術の開発
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography,メタマテリアルメタマテリアル/ Metamaterial
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
大川 晃次郎
所属名 / Affiliation
大日本印刷株式会社ファインデバイス事業部
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
微細加工技術の一環としてレーザー直描装置を用いた2.5次元加工を検討中である。装置の使用方法やポイントを学び、得られた知見を今後の開発へ生かすことを目的としている。
実験 / Experimental
シリコンウエハ上へレジスト塗布し、上記描画装置にて加工・評価する。階調カーブの調整は、スロープ形状(100 mm長さ×8 mm深さ) を用いて行った。
目的のグレースケール形状を表現するために、各グレースケール値に対応する変調強度を設定し、これをフィルターとして使用することで、目的の線形表現に繋げる(参照：ナノテクノロジープラットフォーム事業利用報告書 F-21-UT-0120)。
結果と考察 / Results and Discussion
深さの調整はレーザー出力の最適化により行っている。Fig. 1に示すように、モデルと実際の相関を得ることができた(F-21-UT-0120)。2022,年度は昨年度に報告済みのパターンをモチーフに途中まで加工を進めていたが、開発の優先順位が変わり、中断した。 グレースケール露光自体は良好であり、将来性があるものだと考えている。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 Comparison of feature’s profiles; model(solid) and experimental result(blue line): 昨年の報告(F-21-UT-0120)より引用
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件