【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT1024
利用課題名 / Title
Ni基合金の酸化皮膜の成分測定
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
オージェ分析、高耐食性材料,電子顕微鏡/Electron microscopy,X線回折/X-ray diffraction,質量分析/Mass spectrometry,高品質プロセス材料/ High quality process materials
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
王 昀
所属名 / Affiliation
株式会社 日立製作所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
Ni基合金の高温水中の応力腐食割れの発生メカニズム検討の一環として，オージェ分析により，高温水に浸漬した後のNi基合金の酸化皮膜における化学成分の分布を測定した。
実験 / Experimental
Ni基合金の高温水環境での劣化を評価している。制高温水に浸漬したNi基合金の断面を，イオンミリングにより鏡面仕上げを施した。その後，オージェ分光分析装置PHI SAM680を利用して，表面下1～2mmの深さまで，ライン分析を行い，主成分であるNi，Fe，CrおよびOの濃度分布を測定した。倍率は100kにした。
結果と考察 / Results and Discussion
測定した視野のSEM像の代表例をFig. 1に示す。図中の縦方向に示した白いラインに沿って，オージェ分光分析装置により各元素の原子濃度分布を測定した。得られた結果をFig. 2に示す。Fig. 1のSEM像から表面を特定した位置は，Fig. 2でOの上昇の開始点位置によく一致した。O濃度の分布から酸化皮膜の範囲を特定した。酸化皮膜内の濃度は，表面から深さ方向にNiが増加，Feが低下することが確認され，参考文献(1)に近い結果となった。ただし，高倍率の測定中にドリフトが生じたため，順番に測定した各元素は位置的にずれる可能性があった。今後この課題を解決するために，測定条件を最適化検討を行う予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 SEM image of cross-section of Ni-based alloy
Fig. 2 Line analysis along the vertical line in Fig.1
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・参考文献(1) W. Kuang, et al., Corrosion Science 53, pp. 3853–3860 (2011)
・東京大学大学院工学系研究科 附属システムデザイン研究センターの落合幸徳先生と太田悦子様に感謝します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件