利用報告書 / User's Report | ARIM Japan公式ホームページ_マテリアル先端リサーチインフラ

【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.09】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT1023

利用課題名 / Title

反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions

キーワード / Keywords

EB,高品質プロセス材料/ High quality process materials,原子薄膜/ Atomic thin film

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

戸谷剛

所属名 / Affiliation

北海道大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

小田島　聡

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-503：超高速大面積電子線描画装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

反応物の波長4.76μm（波数：2100cm^-1）の赤外線吸収帯に赤外線を放射するエミッタの実現を目的に，金属ー絶縁体ー金属（MIM）構造を持つ波長制御エミッタ（面積：50mm×50mm）の作製を行った。

実験 / Experimental

MIM構造の作製手順と利用した機関をFig.1に示す。北海道大学のコンパクトスパッタでCrとAuをスパッタし，原子層堆積装置(ALD)でアルミナAl₂O₃を堆積させた後，東京大学で電子線描画を行い，北海道大学で現像後，ヘリコンスパッタを用いて，CrとAuをスパッタし，リフトオフすることでMIM構造を作製している。

結果と考察 / Results and Discussion

作製したMIM構造の垂直放射率をFig.2に示す。Fig.2のCenter_#1, #2は，50mm角の中心付近を測定した１回目と２回目の垂直放射率のデータを示す。作製したMIM構造の垂直放射率が，目標とした波長域（4.76μm付近）で大きくなっていることが分かる。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig.1 Fabrication procedure of MIM structure.

Fig.2 Normal emissivity

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

本研究は、日本ガイシ株式会社との共同研究にて実施しました。超高速大面積電子線描画装置を使用するにあたり，東京大学の藤原　誠　様，澤村智紀様に大変お世話になりました。東京大学以外に北海道大学のマテリアル先端リサーチインフラに登録されている装置を利用しています。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

棚田慶崇, 戸谷剛, 小林一道, 近藤良夫，連続励起された水の分子内振動から分子間振動への緩和，第59回日本伝熱シンポジウム，D133，2022年5月18日

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件