【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT5028
利用課題名 / Title
窒化ガリウムフォトニック結晶のSPMを用いた表面解析
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
走査プローブ顕微鏡/Scanning probe microscopy,リソグラフィ/Lithography,フォトニクス/ Photonics,ナノ多孔体/ Nanoporuous material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
惣角 翔
所属名 / Affiliation
電気通信大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
微細加工技術を利用して作製した窒化ガリウム製の空洞共振器について、近接場顕微鏡を利用して、作製した共振器の作成状態を非破壊（断面作成等を行わずに）観察を行った
実験 / Experimental
探針に可変波長レーザを照射し、探針に接触している試料と探針の間で発生する近接場光について、その散乱光を分光器で測定することにより、微小領域の光学像を取得した。測定には、産業技術総合研究所のリアルプローブ顕微鏡装置（AT-504）を利用した。
結果と考察 / Results and Discussion
図１は標準試料を利用した機器の調整中の画像である。波長を1150/cmに設定し、シリコンとその酸化膜（図1の右図の赤色部分）が明瞭に画像化される条件を設定できた。波長を1150 /cmに設定して、空洞共振器の反射光強度と吸収の測定を行った。この結果、薄膜の下に、中空構造のある部分は、反射強度で観察すると、共振器の構造が確認でき、内部の空洞部分（図２の左図の赤色部分）が画像化されている。また、材料の吸収を示す画像（図２の右図）は、穴の部分以外が均質なコントラスト（青色）であり、1150/cmの吸収の無い材料である。この結果から、微細加工後に内部構造の確認ができた。（欠陥や素材に関する測定は今後の課題である。）
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 標準試料の近接場顕微鏡画像（1150 /cm、左：反射光強度、右：吸収像）
図2 中空構造試料の近接場顕微鏡画像（1150 /cm、左：反射光強度、右：吸収像）
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
井藤浩志博士（物質計測標準研究部門）による研修・測定に関する助言に感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件