【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.26】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT5009
利用課題名 / Title
半導体材料のキャリアダイナミクス計測1
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion
キーワード / Keywords
赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy,太陽電池/ Solar cell,フォトニクス/ Photonics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
五島 敬史郎
所属名 / Affiliation
愛知工業大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
廣瀬 謙
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
2022年8月23日(火)にフェムト秒過渡吸収分光装置(VITA)を利用して、半導体試料の透過過渡吸収測定を行った。測定した半導体試料はGaAsバルクである。
実験 / Experimental
フェムト秒過渡吸収分光装置(VITA)を使用し、測定の際の波長はポンプ光を400 nmで固定し、プローブ光を875 nmから900 nmまで5 nmずつ変更して複数回測定を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
プローブ光の波長を875 nmに設定した時と900 nmに設定した時の測定結果について、以下の図1と図2に示す。青色の点が測定結果、橙色の線がフィッティングである。以下の式(1)を用いてフィッティングを行った。[1]
∆abs=(Imax-I0 )exp(-T/τ)+I0 (1)
フィッティングを行った結果、875
nmの測定結果の緩和時間は2.1 ps、900 nmの測定結果の緩和時間は2.85 psであることが分かった。また、875
nmより900 nmの測定結果の方が、プローブ光が試料を透過する量が多いことが分かる。測定前の時点では、プローブ波長は800 nmでも測定可能であると考えていたが、測定の結果875 nm以降で測定が可能であった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 プローブ波長875 nmでの測定結果
図2 プローブ波長900 nmでの測定結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
[1]福本恵紀，J. Vac. Soc. Jpn.，Vol. 60，No. 10，pp.388-391，2017
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件