【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0360
利用課題名 / Title
ステッパ露光およびリフトオフプロセスによる、金属パターン構造作製
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
メタマテリアル, 金属パターン
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
廣谷 務
所属名 / Affiliation
Bushclover株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-011：i線露光装置
AT-109：６インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック）
AT-092：高圧ジェットリフトオフ装置
AT-093：高速電子ビーム描画装置（エリオニクス）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
メタマテリアルをはじめとする微小な金属パターン構造作製のため、ステッパ露光でどの程度まで微小なサイズの構造作製が可能かを見極める。
石英基板に対し、ステッパを用いて露光パラメータ条件を振ったパターン露光、現像を行う。金属膜をEB蒸着リフトオフし構造を作製、SEM観察による形状評価を行う。
実験 / Experimental
利用した主な装置
【NPF011】i線露光装置
【NPF109】6インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック）
【NPF092】高圧ジェットリフトオフ装置
【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス)
実験方法
石英基板にポジレジストPFI38を塗布、i線露光装置で露光時間、フォーカス位置を条件振りしてホールパターンを露光、現像する。パターン径はφ0.5～φ2.0の範囲で作製した。
露光条件は、露光時間：240ms～400msを20ms刻みで9水準、フォーカス：-0.4～0.4を0.1刻みで9水準の合計9x9の81水準とした。
露光したホール形状に対し、EB蒸着装置でCr＋Au膜を蒸着、リフトオフ装置でリフトオフを行い、ピラー形状の金属蒸着膜を作製、蒸着径をSEMで撮像、測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
測定結果の一例として、φ0.6のピラー形状を撮像した結果を記載する。
露光時間340ms、フォーカスは-0.1～0.1の条件で設計値に近い蒸着径が得られている。
最適露光時間である340msの露光時間の条件で、フォーカス条件振りの範囲である-0.4～0.4においては、露光結果に顕著な差は確認できなかった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Table.1各露光時間と各フォーカスにおける蒸着径
Fig.1 ピラー形状のSEM画像 左図：340ms、右図：240ms（フォーカス0）
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件