【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0453
利用課題名 / Title
透過電子顕微鏡－原子間力顕微鏡比較測長用試作標準物質パターン線幅の走査電子顕微鏡を利用したSIトレーサブルな値付け
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
透過電子顕微鏡(TEM), 原子間力顕微鏡(AFM), 測長比較, 倍率校正用標準物質(RM)
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
小林 慶太
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-107：3次元電界放出形走査電子顕微鏡（エリオニクス）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
我々は透過電子顕微鏡(TEM)を用いた微細構造の測長[1-3]のため原子間力顕微鏡(AFM)と比較測長が可能な倍率校正用標準物質(RM)を試作している[1]。このRMを構成するパターン線幅にSIトレーサブルな値付けをするため、走査電子顕微鏡(SEM)により認証RM(CRM)とパターン線幅の比較測長を行った。
実験 / Experimental
・SEM (Elionix,
ERA-9200), 【NPF107】。
計量標準総合センター(NMIJ) CRM 5207-a[4]と試作RMのパターンのSEM像をそれぞれ同じ倍率で撮影した。SEM像中のCRM 5207-aのピッチ間隔で倍率を校正することで試作RMのパターン線幅に値付けを行う。
結果と考察 / Results and Discussion
CRM 5207-aと試作RMのパターンのSEM像を取得することができた。現在CRMのSEM像の解析をおこなっており、この結果に基づいて試作RMのパターン線幅に値付けをする。
・今後の課題
線幅に値付けをしたパターンを用いたTEMとAFMによる比較測長を行う。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・参考文献
[1] 小林慶太, 産総研計量標準報告, 10, 501 (2021).
[2] K. Kobayashi, et al., Meas. Sci. Technol., 32, 095011 (2021).
[3] K. Kobayashi, et al., Ultramicroscopy, 238, 113537 (2022).
[4] K. Kumagai, A. Kurokawa, Microscopy, 69, 360 (2020).
・謝辞
この実験に際して産総研NPFの木塚優子博士に装置のトレーニングを受けた。謝してここに記す。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件