【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0412
利用課題名 / Title
超高速光電流デバイス作成のための露光装置を用いた微細加工
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
超高速光電流デバイス, THz周波数帯
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
福田 拓未
所属名 / Affiliation
筑波大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
光によって物質中に発生する非常に早い電流応答には、様々な基礎物理現象が内包されており、その超高速な応答を利用することで、THzの周波数帯で駆動する次世代エレクトロニクスの発展が期待されている。利用者は、超高速な光電流応答の基礎について調べることが可能な、on-chipデバイスの開発と作成を行った。
実験 / Experimental
デバイス作成に先立って、Si/SiO2基板(2 cm×2 cm)上に微細パターンの作成を試みた。
1. フォトレジストの塗布
(1)スピンコートの前に、基板状にHMDSを蒸着。
(2)【NPF008】スピンコーターを用いて、Si/SiO2基板上にフォトレジスト(AZ5214E)をスピンコート。(100 rpm 20秒, 2000 rpm 30秒)
2.【NPF006】マスクレス露光装置でパターン作成
結果と考察 / Results and Discussion
基板上へのフォトレジストの塗布は成功したが、マスクレス露光装置では、ソフトウェアの不調でパターン作成が正常に行われなかった。
来年度は、装置の扱いをより練習し、パターン作成や目的であるデバイスの作成を成功するために条件検討を行う。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件