【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0397
利用課題名 / Title
ALDを用いたモールド作製プロセスの研究
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
ナノインプリント（NIL）,モールド作製,Self Aligned Double Patterning（SADP）
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
鈴木 健太
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-099：サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]
AT-031：原子層堆積装置_1[FlexAL]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では原子層堆積（ALD）を用いた、微細なナノインプリント（NIL）用のモールド作製プロセスを構築することを目的としている。
実験 / Experimental
ALDを使用したモールド作製プロセスの構築として、Self Aligned Double Patterning（SADP）の検討を行った。SADPのマンドレルパターンに対して2種類の膜種（SiO2とSiN）のALD膜を成膜した。SiO2は【NPF099】サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP]を利用して、50℃の条件で16nmの膜厚レートで成膜した。SiNは【NPF031】原子層堆積装置_1[FlexAL]を利用して、同じく16nmの膜厚レートで成膜した。成膜したサンプルを断面SEM観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
図１はHP45nmのレジストパターンをマンドレルとして、SiO2をALDしたパターンのSEM画像を示している。目標の膜厚16nmのSiO2の膜がレジストパターンの表面に均一な厚さで成膜されていることが確認できた。図２はHP45nmのSiO2パターンをマンドレルとして、SiNをALDしたパターンのSEM画像を示している。マンドレルパターンのSiO2と成膜したSiNの境界が確認できないが、元のSiO2のパターン（破線）の差分を見ると、おおよそ目標の膜厚16nmのSiNの膜が成膜されていることが確認できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１. レジストパターンに対するALD（SiO2）後のSEM画像
図2. SiO2パターンに対するALD（SiN）後のSEM画像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・今後の課題
ALDを行ったサンプルに対してエッチングを行い、SADP工程を進める予定である。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件