【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0378
利用課題名 / Title
EB描画を使用したグレイスケール露光法の技術開発
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
グレイスケール露光,コントラストカーブ,gL-1400,3次元形状
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
新関 嵩
所属名 / Affiliation
Bush Clover株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
村松 淳平
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-093：高速電子ビーム描画装置（エリオニクス）
AT-045：触針式段差計
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
EB描画装置は、露光する際のDose量を変調することで、3次元形状を作製することが可能である。この実験では、EB描画装置を用いたグレイスケール露光を行うために事前実験として、Dose量と膜厚の関係性であるコントラストカーブの測定を実施した。
実験 / Experimental
○使用装置
【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス)
【NPF045】触針式段差計
○実験手順
まずは、Si基板上にポジ型レジストgL-1400を2500rpmで塗布した後、ホットプレートにて180℃で3分プリベークを行った。
その後、電子ビーム描画装置にて、500μm×200μmの四角形の塗りつぶしパターンを200μmの間隔を離して描画を行った。このときの露光量は、60～500μC/cm2の間で変化させた。ビーム電流は5nAで露光を行った。
露光後、ZED-N50にて現像を実施した。現像温度は21.5℃、現像時間は3分で、リンスを行わずN2ブローを行い乾燥させた。
現像後、接触式段差系にて、レジストが露光によって膜減りした量を測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
以下の図（Fig.1）は、測定したコントラストカーブのデータである。未露光時の膜厚は1800nmで、レジストがすべて除去されるときのDose量であるClearing Doseは、420μC/cm2であった。
コントラストの値であるγはこのとき、5.6であった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 gL-1400 contrast curve
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
今回測定したコントラストカーブのデータを利用して3次元形状を作成し、3次元形状が測定できるSEMにて形状を測定する予定である。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件