【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.31】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0250
利用課題名 / Title
ALD膜の評価
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
原子層堆積法(ALD),Ru膜,光学特性,TDMAT,Ru(EtCP)2
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
矢野 真葵
所属名 / Affiliation
株式会社ニコン
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
原子層堆積法(Atomic Layer Deposition :ALD)により成膜したRu膜について、分光測定を用いて光学特性を評価した。
実験 / Experimental
〇利用した主な装置
【NPF031】原子層堆積装置 1[FlexAL]、分光光度計
〇実験方法
Oxford InstrumentsのFlexALを用いて、両面研磨したガラスの片面にTiN/Ruを成膜した。成膜条件は以下の通りである。
TiN
プリカーサ：TDMAT
成膜温度：350℃
サイクル数：100cycle
Ru
プリカーサ：Ru(EtCP)2
成膜温度：350℃
サイクル数：900cycle
成膜後に自社所有の分光光度計を用いて反射率、および透過率を測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
分光測定を用いてTiN/Ruを成膜したサンプルの反射率、透過率測定し反射、透過より計算した吸収の結果をFig. 1に示す。石英ウエハ上にTiN/Ruを成膜したサンプルの写真をFig. 2に示す。光の波長が200 nm~800 nmの範囲で平均反射率は20%、平均透過率は38%、平均吸収率は42%であった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Transmission measurement (orange) reflection measurement (gray) and 100-R-T calculation (blue)
Fig. 2 TiN/Ru on quartz wafer
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
技術代行を担当いただいた山崎将嗣様はじめ、産業技術総合研究所ナノプロセシング施設の皆様に深く感謝致します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件